| 仪器名称 | 聚焦离子束-场发射扫描电子显微镜（FIB） |
| 规格型号 | Cross beam 540 |
| 生产厂家 | 德国蔡司 |
| 仪器简介 | 聚焦离子束系统-场发射扫描电子显微镜通过离子束对材料进行刻蚀，同时配合扫描电子显微镜进行实时定位与观察，具有束流稳定、分辨率高、纳米操控精确的特点，可以在纳米尺度上对材料开展三维形貌、晶体结构和微区化学成分的定性\定量分析研究，是纳米加工的代表性方法。目前该设备已广泛应用于二维与三维表征、纳米加工、透射电镜制样与三维重构等方面。 |
| 性能指标 |
聚焦离子束： 分辨率：3 nm @30kV ； 可用离子束流：1 pA–100 nA ； 加速电压：0.5-30 kV。 场发射扫描电镜： 分辨率：0.9 nm @15 kV; 1.8 nm @1 kV； 加速电压：0.02-30 kV； 放大倍数：12X-2,000,000X 配置5个探测器 ： √ 镜筒内置二次电子探测器（InLens） √ 镜筒内置能量选择背散射电子探测器（EsB） √ Everhart-Thornley样品室二次电子探测器（SE） √ 4Q-BSD 背散射电子探测器 √ 能谱仪（EDS) 五支气体注入系统： XeF2，Pt，C，Si， H2O Avizo三维分析软件： 含孔喉模型 |
| 测试项目 | 1、高分辨二次电子/背散射电子图像 2、 元素组成与含量( EDS)分析3、透射电镜样品制备 4、纳米加工（沉积、刻蚀）5、三维重构成像 6、三维空间材料组成及分布 7、三维孔隙分布、连通性、孔径及孔隙度 |
| 样品要求 | 1、无腐蚀性、无爆炸性、无剧毒性的粉体和块体2、块体样品高度必须低于1cm，长宽小于2cm，表面必须平整3、树脂包埋样品需使用导电树脂 |
| 设备负责人 | 设备负责人：王羽 联系电话： Email：yuwang@sinap.ac.cn |
