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聚焦离子束-场发射扫描电子显微镜(FIB)
规格型号:Cross beam 540
生产厂家:德国蔡司
设备状态: 良好
实验室认证:无
设备负责人: 王羽
仪器详细信息
仪器名称 聚焦离子束-场发射扫描电子显微镜(FIB)
规格型号 Cross beam 540
生产厂家 德国蔡司
仪器简介 聚焦离子束系统-场发射扫描电子显微镜通过离子束对材料进行刻蚀,同时配合扫描电子显微镜进行实时定位与观察,具有束流稳定、分辨率高、纳米操控精确的特点,可以在纳米尺度上对材料开展三维形貌、晶体结构和微区化学成分的定性\定量分析研究,是纳米加工的代表性方法。目前该设备已广泛应用于二维与三维表征、纳米加工、透射电镜制样与三维重构等方面。
性能指标

 

聚焦离子束:
分辨率:3 nm @30kV
可用离子束流:1 pA100 nA
加速电压:0.5-30 kV。
场发射扫描电镜:
分辨率:0.9 nm @15 kV; 1.8 nm @1 kV
加速电压:0.02-30 kV 放大倍数:12X-2,000,000X 
配置5个探测器 
  √ 镜筒内置二次电子探测器(InLens 
  √ 镜筒内置能量选择背散射电子探测器(EsB 
  √ Everhart-Thornley样品室二次电子探测器(SE 
  √ 4Q-BSD 背散射电子探测器 
  √ 能谱仪(EDS)
五支气体注入系统:
XeF2PtCSi H2O
Avizo三维分析软件:
含孔喉模型
测试项目 1、高分辨二次电子/背散射电子图像 2、 元素组成与含量( EDS)分析 3、透射电镜样品制备 4、纳米加工(沉积、刻蚀) 5、三维重构成像 6、三维空间材料组成及分布 7、三维孔隙分布、连通性、孔径及孔隙度
样品要求 1、无腐蚀性、无爆炸性、无剧毒性的粉体和块体 2、块体样品高度必须低于1cm,长宽小于2cm,表面必须平整 3、树脂包埋样品需使用导电树脂
设备负责人 设备负责人:王羽
联系电话:021-39194631
Email:yuwang@sinap.ac.cn
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